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実験・開発用、卓上ディップコーター/引上げ角度調整機構付き
ナノスピードディップ®コーター ND-0407-S4(ナノディップ®コーター) (Z軸、X軸の2軸制御)
様々なプロセスに対応する3次元タイプのナノスピードディップ®コーターです。ナノオーダーでの引き上げ移動、θ角引き上げ移動を行うことで、単分子の粒子配列から、多孔質体への薄膜を形成することができます。
要望
・ ワークを垂直に精度良く微速で塗布したい
・ 角度をつけて、溶液密度を変化させて塗布したい
・ 2液を使用して交互に塗布したい
・ 引き上げ途中で速度可変し、膜厚をコントロールしたい
・ 角度をつけて、溶液密度を変化させて塗布したい
・ 2液を使用して交互に塗布したい
・ 引き上げ途中で速度可変し、膜厚をコントロールしたい

これひとつで解決
・ 従来の超低速垂直塗布可能
・ θ角を調整することで角度引き上げ可能
・ 交互吸着などの異液による塗布が可能
・ 各軸での独立および複合での動作可能(2軸)
・ 新機能として連続ポイント運転可能
・ θ角を調整することで角度引き上げ可能
・ 交互吸着などの異液による塗布が可能
・ 各軸での独立および複合での動作可能(2軸)
・ 新機能として連続ポイント運転可能

ガラス、アクリル、銅箔、チューブ状の物質に超低速のナノ単位の速度 (1nmごとの可変)にてディップが可能です。
ナノレベルの膜厚形成、オパール膜生成等に適しています。
操作はタッチパネル方式を採用し、誰でも何処でも同一条件で簡易に操作が出来ます。
停止ポイント(最大16ポイント)、速度変更(1nm単位)、繰返し動作、動作 パターンの記憶(最大8パターン)が
タッチパネル上で簡単に行えます。 京都大学 平尾研究室のご指導により開発されたシステムです。
日本語、英語表示はワンタッチ切り替えですので外国人の研究者がおられる場に最適です。
ナノレベルの膜厚形成、オパール膜生成等に適しています。
操作はタッチパネル方式を採用し、誰でも何処でも同一条件で簡易に操作が出来ます。
停止ポイント(最大16ポイント)、速度変更(1nm単位)、繰返し動作、動作 パターンの記憶(最大8パターン)が
タッチパネル上で簡単に行えます。 京都大学 平尾研究室のご指導により開発されたシステムです。
日本語、英語表示はワンタッチ切り替えですので外国人の研究者がおられる場に最適です。
| ストローク | Z軸:50mm(X軸:100mm) |
| 最小速度 | 1nm/sec |
| 最大速度(Max) | 2mm/sec |
| 操作方法 | タッチパネル |
| 画面文字 | 英語/日本語 |
| 処理速度指定ポイント数 | 16ポイント |
| 停止位置指定ポイント数 | 16ポイント |
| 停止時間指定ポイント数 | 16ポイント |
| 記憶プログラム数 | 8プログラム |
| モニタ機能:現在速度 | 有 |
| モニタ機能:現在位置 | 有 |
| モニタ機能:残り時間 | 有 |
| 繰り返し運転 | 有 |
| 標準クリップ | PP材 |
| ユーティリティー | AC100V 300VA |
| 可搬重量 | 500g |
| 最大処理サイズ:mm | (W)45X(H)45 |
| 外形寸法(本体):mm | (W)330X(H)375X(D)251 |
| 外形寸法(制御BOX):mm | (W)300X(H)162X(D)285 |








